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抛光液的温度越低，材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为:温度越低，抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多，相同条件下生成的气体越少，包围在零件周围的混合气体层越薄，而在压强和电压不变的情况下，气体变薄就意味着电场强度增大，导致碰撞电离系数显著增大，虽然总的碰撞距离减小，但仍然有更多的电子冲击到工件表面，材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下，混合气体层较薄，也意味着气体层不太稳定，等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大，同时气体层薄也意味着系统的电阻减小，电流增大，且电流值大幅度变化，常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象，这对复杂形状零件和大尺寸零件来说特别明显。
等离子抛光是靠物理、化学反应同时存在、物理反应离子轰击只是有各方面，抛光盐不对是打不到抛光效果的，化学微腐蚀起到至关重要的作用。化学微腐蚀必须和工件表面通电时起反应、抛光盐必须对工件的材料在通电情况下发生微腐蚀方能起到抛光作用，使用不同材料会有不同的抛光盐去对应它，抛光盐成分和量的多少起到至关重要的作用。 八溢自动化设备有限公司配置的抛光盐可以针对各种全属材料做专门的对应，达到工件抛光去毛刺功效。欢迎咨询。
等离子抛光技术是目前进的表面微观整平技术之一，可以在较短时间内实现对样件表面粗糙度的显著下降。该技术利用离子放电原理，使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成，从而优先去除该位置的材料，实现表面微观整平。抛光开始阶段，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，使得放电通道更多选择在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快。但随着抛光时间的延长，粗糙度下降的速度逐渐减缓。离子抛光技术是现代制造业中不可或缺的重要技术，为提高产品质量提供了强有力的保障。
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